1. 光學實驗室
o 要求：溫度一般控制在 20 - 25℃，波動范圍盡量控制在±2℃以內。
o 原因：光學儀器中的光學元件如鏡片、棱鏡等，其折射率和熱膨脹系數會隨溫度變化而改變。溫度波動過大可能導致光學元件的變形，影響光路的準確性和穩定性，進而降低光學儀器的成像質量和測量精度。例如，在使用干涉儀進行精密測量時，溫度的變化會使干涉條紋發生移動，導致測量結果出現較大誤差。同時，溫度變化還可能引起空氣折射率的改變，對光學傳播路徑產生影響。
2. 低溫物理實驗室
o 要求：根據研究目的，需要達到極低的溫度，如接近絕對零度（ - 273.15℃）。常見的低溫實驗溫度有液氮溫度（ - 196℃）、液氦溫度（ - 269℃）等。
o 原因：在低溫條件下，許多物質會展現出獨特的物理性質，如某些金屬材料會出現超導現象，即電阻突然消失。研究這些低溫物理現象對于探索物質的微觀結構和基本物理規律具有重要意義。通過精確控制低溫環境，可以深入研究物質在極端條件下的電子態、磁學性質、熱學性質等，為材料科學、能源科學等領域的發展提供理論基礎和技術支持。
3. 高溫物理實驗室
o 要求：溫度可高達數千攝氏度。例如，在研究高溫等離子體物理時，等離子體的溫度可達到 10^6 - 10^8℃；而在一些材料的高溫物理性能測試實驗中，溫度可能在 1000 - 3000℃之間。
o 原因：高溫條件可以改變物質的相態和原子結構，引發新的物理現象和過程。在高溫下，物質會發生電離形成等離子體，研究高溫等離子體對于核聚變、天體物理等領域具有重要意義。同時，通過對材料在高溫下的力學性能、電學性能、光學性能等進行研究，可以為航空航天、能源等領域開發耐高溫材料提供依據。
