1. 光學實驗室
o 要求：溫度一般控制在 20 - 25℃，波動范圍盡量控制在±2℃以內(nèi)。
o 原因：光學儀器中的光學元件如鏡片、棱鏡等，其折射率和熱膨脹系數(shù)會隨溫度變化而改變。溫度波動過大可能導致光學元件的變形，影響光路的準確性和穩(wěn)定性，進而降低光學儀器的成像質(zhì)量和測量精度。例如，在使用干涉儀進行精密測量時，溫度的變化會使干涉條紋發(fā)生移動，導致測量結果出現(xiàn)較大誤差。同時，溫度變化還可能引起空氣折射率的改變，對光學傳播路徑產(chǎn)生影響。
2. 低溫物理實驗室
o 要求：根據(jù)研究目的，需要達到極低的溫度，如接近絕對零度（ - 273.15℃）。常見的低溫實驗溫度有液氮溫度（ - 196℃）、液氦溫度（ - 269℃）等。
o 原因：在低溫條件下，許多物質(zhì)會展現(xiàn)出獨特的物理性質(zhì)，如某些金屬材料會出現(xiàn)超導現(xiàn)象，即電阻突然消失。研究這些低溫物理現(xiàn)象對于探索物質(zhì)的微觀結構和基本物理規(guī)律具有重要意義。通過精確控制低溫環(huán)境，可以深入研究物質(zhì)在極端條件下的電子態(tài)、磁學性質(zhì)、熱學性質(zhì)等，為材料科學、能源科學等領域的發(fā)展提供理論基礎和技術支持。
3. 高溫物理實驗室
o 要求：溫度可高達數(shù)千攝氏度。例如，在研究高溫等離子體物理時，等離子體的溫度可達到 10^6 - 10^8℃；而在一些材料的高溫物理性能測試實驗中，溫度可能在 1000 - 3000℃之間。
o 原因：高溫條件可以改變物質(zhì)的相態(tài)和原子結構，引發(fā)新的物理現(xiàn)象和過程。在高溫下，物質(zhì)會發(fā)生電離形成等離子體，研究高溫等離子體對于核聚變、天體物理等領域具有重要意義。同時，通過對材料在高溫下的力學性能、電學性能、光學性能等進行研究，可以為航空航天、能源等領域開發(fā)耐高溫材料提供依據(jù)。
