?凈化工程的主要任務(wù)是控制產(chǎn)品（如硅芯片等）所接觸大氣的潔凈度及溫濕度，以確保產(chǎn)品在一個(gè)良好的環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造?。具體來(lái)說(shuō)，凈化工程包括空氣凈化工程和潔凈工程兩個(gè)方面：?12
?空氣凈化工程?：在特定空間范圍內(nèi)，通過(guò)排除空氣中的微粒子、有害氣體、細(xì)菌等污染物，并將室內(nèi)溫度、潔凈度、壓力、氣流速度與分布、噪音振動(dòng)及照明等控制在某一需求范圍內(nèi)，以確保生產(chǎn)環(huán)境的潔凈和安全。
?潔凈工程?：主要涉及潔凈室的設(shè)計(jì)與建設(shè)，通過(guò)控制空氣中的微塵粒子數(shù)量，確保生產(chǎn)環(huán)境的無(wú)塵凈化。潔凈室的無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標(biāo)準(zhǔn)的粒子數(shù)量來(lái)規(guī)定，例如在芯片生產(chǎn)中，微塵數(shù)量需嚴(yán)格控制在每立方米1000個(gè)以內(nèi)。
此外，凈化工程在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)中有重要應(yīng)用。例如，在光刻曝光工藝中，為了防止熱膨脹系數(shù)差異導(dǎo)致的誤差，生產(chǎn)環(huán)境的溫度和濕度需嚴(yán)格控制。溫度應(yīng)保持在±0.1度以內(nèi)，濕度一般保持在35%至45%之間，以防止灰塵吸附和靜電問題。
